Innofacial 雙漩水波

Innofacial雙漩水波為非侵入式水動力煥膚系統，透過渦漩水流技術，同步進行清潔、溫和去角質、粉刺清除與精華液導入，有助於提升肌膚保濕度、細緻度與整體膚況。

本網頁名稱與仿單不同(部分為仿單核准適應症外的使用介紹，或口語化俗稱)，供民眾理解參考；正式療程/儀器名稱、效果等，均以醫師親自說明為準。

Innofacial 雙漩水波是什麼？

HUREV於2005年在韓國成立，是一款以「柔軟矽膠旋轉探頭」為核心的煥膚設備，在清潔過程中同步注入專用精華液，在單一療程中同步完成深層清潔、去角質、粉刺管理、保濕與修護，非侵入性、溫和煥膚，讓肌膚在清潔後依然保有水潤與柔嫩，逐步回到平衡、透亮的狀態。

為什麼需要雙漩水波深層清潔？

健康肌膚約 28 天更新一次，但當代謝變慢時容易出現：

✔ 角質堆積 → 粗糙暗沉
✔ 油脂阻塞 → 粉刺痘痘
✔ 吸收下降 → 保養效果打折

透過低刺激煥膚，幫助肌膚回到正常代謝節奏。

可改善的膚況

毛孔阻塞與粉刺堆積
油水失衡與泛油光
老廢角質造成的粗糙暗沉
膚色不均與乾燥缺水

療程後肌膚更清透、水潤、細滑，後續保養更好吸收。

技術特色

採用柔軟矽膠探頭，貼合臉部曲線
探頭360°旋轉運作，帶走角質更全面、不拉扯肌膚
結合探頭作用與精華輔助，同步完成物理＋化學煥膚
感受舒適，低刺激煥膚也能很放鬆
日常膚況管理，亦適合醫美療程前後作為基礎調理

💧渦漩清潔＋真空吸附
結合高速旋轉與吸力，去除深層油脂、粉刺、堵塞角質，清潔毛孔。

💧雙波刷頭＋吸引導入
清潔同時導入高濃縮精華液，深層滋養、軟化角質、舒緩、修復肌膚屏障

💧專屬精華液調理＋補水導入
高效精華同步注入，平衡油水、改善粗糙、提升水潤感與光澤度。

獨家雙波刷頭設計

黑漩頭
專為補水以及導入設計的特殊漩轉矽膠頭，可為皮膚表層補充精華液的同時進行潔面、清除代謝物，補充水分和營養。通過高速旋轉的馬達和特殊研磨矽膠鑽頭，呈現柔和的按摩效果，實現無痛淨膚。

橘漩頭
透過上下兩個吸入口可緊密貼合與皮膚，在真空狀態下為皮膚表面旋轉塗抹精華素的同時利用螺旋形進行低刺激補水煥膚療程，可進行季節性角質護理。鼻子等需要精密施術的部位採用小端頭，額頭、面頰等寬大部位採用大端頭，相比現有乾式去角質方式效率更高。